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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

投资项目背景图 该半导产生制造中小型客户地属华北城市,其主要产生模块化电路原理净化加工芯片,日的排放量含氟废气约800吨。随着是时间绿色的标准提升,增加了净化加工公用设施无非能够满足氟化物的排放量有机废气浓度降至5mg/L的新让,中小型客户创业11000万元新投入行业含氟废气净化加工系统的。 焦化废水物质及源 工业废水其其主要由来于基带芯片加工方式中的刻蚀步骤和拆洗步骤,其其主要严重有机废气分为: 氟阳离子含量:300-800mg/L pH值:2- 具有刺激性极少量硅酸盐、磷酸二氢钠 轻微高价属如铜、镍等 处置加工操作流程 分为"预治理+检查是否悠长岁月中+的深度治理"整合新工艺: 调整池:义均水硬度容量,设制pH网上监测技术 4级影响池:加药氢空气氧化钙,操控pH至7-8,导致氟化钙沉淀物中 1阶段沉垫池:沉垫分开氟化钙飞灰 2级发生反应池:污泥脱水氯化钙和配位碱式氯化铝,进两步消除多余氟铝离子 一级沉积池:再次沉积离心分离 砂滤装置:消除飘浮物 亲水性炭粘附:清理磷化合物物和进样器血本属 污水办理控制系统:板框压滤缺水,污水含水量率减少为60%这 之后效率 控制系统运营稳定性高后,有水出水体: 氟正离子氨水浓度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 天价属的含量均最低排除限 可以实现《电子无线鑫霖环保水空气环境有害特性产生口细则》(GB39731-2020)标准,次年削减氟化物产生口约180吨。

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