半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
内容时代背景
该企业主行业产量半导体设备用高纯氟化氢和六氟化钨,生活污水氟氧化还原电位良好且组成成分多样化。原先整理工学艺结果不维持,氟化物排污不时不合格。工作投资项目2一千万元开发专门针对整理的设施,设计整理实力500吨/天。
焦化废水有效成分及原因
电镀废水主耍来研发系统的洗涤剂和有机废气物洗涤剂:
氟阴离子酸度:1500-3500mg/L
含盐酸根铁离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含微量分析钨、钼等金属制物质
治疗的工艺环节
造成高浓硫酸浓度特殊性,主要采用"结合+多极放置+膜治理"施工工艺:
化工废水处理方法整理池:类别整理不同的溶度化工废水处理方法
结合反馈池:分阶段性加药氢硫化钠和氢硫化钙,调节决定pH至7.5-8.
二沉池发生反应池:加药系统PAC和PAM增进沉淀物中体验
斜管放置池:科学规范固液拆分
多物质进行滤芯过滤器:除掉很小粒状
反参透软件系统:厚度脱盐和除氟
淤泥果汁脱干软件:离心式脱干后淤泥建筑垃圾清运专业课程外理
在线平台监测技术整体:及时风控氟亚铁离子有机废气浓度和pH值
结果目的
治理系統开机运行信息:
进水量氟阴阳离子均匀浓度值:2800mg/L
喷水氟铁离子质量浓度:3.2mg/L(最低值)
氟避开率:99.9%超过
水中水回用率:满足65%
系統自行化的情况高,达成工业废水处理工艺设备价格减少30%,年回收利用氟化钙副產品约400吨。